موضوع پایان نامه: Monte Carlo Simulation of Roughening During Thin Film Plasma Etching نویسنده:Angelikopoulos Panagiotis سال :2006زبان : انگلیسیتعداد صفحات : 81حجم فایل:3.13 مگابایتفصلها:The Importance of Surface roughnessRoughness CharacterizationsPrevious WorkDry isotropic etching using reactive neutralsIon enchanced etchingAn Etching model using Inhibitors روش مونت کارلو یکی از روشهای ...